机译:N2:(N2 + CH4)比对低温等离子体增强化学气相沉积法制备疏水纳米结构氢化碳氮化物薄膜的研究
机译:对N 2:(N 2 + CH 4)的作用的研究在低温下通过等离子体增强的化学气相沉积在疏水纳米结构氢化氮化碳氮化碳薄膜的比例。
机译:N2 / CH4微波等离子体辅助化学气相沉积法初步合成氮化碳薄膜:放电和所得薄膜的表征
机译:在低温下通过射频等离子体增强化学气相沉积法生长氮化碳薄膜
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:微波CH4 / H2 / N2等离子体中生长的氮掺杂金刚石薄膜的椭型椭圆型研究增强化学气相沉积